Nacházíte se: Domů » Terminologická databáze » ČSN IEC 60050-841 - zpracování fyzikálním nanášením par PVD (zkratka)

ČSN IEC 60050-841 - Mezinárodní elektrotechnický slovník – Část 841: Průmyslový elektroohřev

Stáhnout normu:

ČSN IEC 60050-841 (Zobrazit podrobnosti)

Změny:

Změna A1 | Datum vydání/vložení: 2021-10-01

Datum vydání/vložení:

2007-11-01

Zdroj:

http://www.electropedia.org/iev/iev.nsf/SearchView?SearchView&Query=field+SearchFields+contains+841+and+field+Language=en&SearchOrder=4&SearchMax=0

Třidící znak:

330050

Obor:

Terminologie - Mezinárodní slovník

ICS:

01.040.29 - Elektrotechnika (názvosloví)
25.180.10 - Elektrické pece

Stav:

Platná

Terminologie normy

‹

Nahlásit chybu

841-34-13 zpracování fyzikálním nanášením par PVD (zkratka)

výrobní proces supravodivého tenkého filmu s použitím hlavně fyzikálního odpařování

POZNÁMKA Proces PVD vytváří především tenký film pomocí vakuového odpařování atomů nebo pokovovacích povlaků použitím jedné nebo více elektrod v inertní nebo reaktivní atmosféře, např. pokovování iontovým svazkem.

[815-05-13 MOD]

841-34-13 physical vapour deposition treatment PVD (abbreviation)

production process of a superconducting thin film by mainly using physical evaporation

NOTE PVD process mainly constitutes a thin film by using vacuum evaporation of atomic species or sputter deposition using single or multiple targets in inert or reactive atmospheres, e.g. ion beam sputtering.

[815-05-13 MOD]