Informační systém Uvádění výrobků na trh
Nacházíte se: Domů » Terminologická databáze » ČSN IEC 60050-561 - lokální změna tloušťky; LTV

ČSN IEC 60050-561 - Mezinárodní elektrotechnický slovník –Část 561: Piezoelektrické, dielektrickéa elektrostatické součástky a souvisící materiálypro řízení a výběr kmitočtu a detekci

Stáhnout normu: ČSN IEC 60050-561 (Zobrazit podrobnosti)
Změny:
Změna A1 | Datum vydání/vložení: 2017-08-01
Změna A2 | Datum vydání/vložení: 2021-01-01
Změna A3 | Datum vydání/vložení: 2021-10-01
Změna A4 | Datum vydání/vložení: 2022-05-01
Datum vydání/vložení: 2015-11-01
Zdroj: http://www.electropedia.org/iev/iev.nsf/SearchView?SearchView&Query=field+SearchFields+contains+561+and+field+Language=en&SearchOrder=4&SearchMax=0
Třidící znak: 330050
Obor: Terminologie - Mezinárodní slovník
ICS:
  • 01.040.31 - Elektronika (názvosloví)
  • 29.020 - Elektrotechnika obecně
  • 31.140 - Piezoelektrické a dielektrické součástky
Stav: Platná
Terminologie normy
Nahlásit chybu

561-07-18 lokální změna tloušťky; LTV

rozdíl mezi nejvyšší a nejnižší hodnotou tloušťky desky uvnitř každé oblasti povrchu desky
POZNÁMKA 1 k heslu Všechny oblasti vyskytující se uvnitř FQA na povrchu desky mají svou vlastní hodnotu LTV.
POZNÁMKA 2 k heslu Měření se provádí na upevněné desce s referenční rovinou stanovenou v IEV 561-07-27, poznámka 1 k heslu, bod 1. Příklad rozdělení oblastí pro měření LTV je znázorněn na obrázku 1. LTV se stanovuje uvnitř každé oblasti, jak je znázorněno na obrázku 2.

Obrázek 1 – Příklad rozdělení oblastí pro měření parametru LTV

 

Obrázek 2 – Lokální změna tloušťky (LTV) stanovená v každé oblasti na povrchu desky

 

561-07-18 local thickness variation; LTV

difference between the maximum value and the minimum value of a wafer thickness at each site of the wafer surface
Note 1 to entry: All sites existing within the FQA on the wafer surface possess their own LTV value.
Note 2 to entry: Measurement is performed on a clamped wafer with the reference plane as defined in IEV 561-07-27, Note 1 to entry, item 1. An example of the distribution of sites for measurement of the LTV is shown in Figure 1. The LTV is defined within each site, as illustrated in Figure 2.

Figure 1 – Example of the distribution of sites for measurement of the LTV

Figure 2 – LTV defined within each site on the wafer surface

Využíváme soubory cookies, díky kterým Vám mužeme poskytovat lepší služby. Využíváním našich služeb s jejich využitím souhlasíte. Více zde Souhlasím