ČSN IEC 60050-523 - Mezinárodní elektrotechnický slovník – Část 523: Mikroelektromechanické součástky
| Stáhnout normu: | ČSN IEC 60050-523 (Zobrazit podrobnosti) | |
| Změny: |
|
|
| Datum vydání/vložení: | 2019-06-01 | |
| Zdroj: | http://www.electropedia.org/iev/iev.nsf/welcome?OpenForm&Seq=1 | |
| Třidící znak: | 330050 | |
| Obor: | Terminologie - Mezinárodní slovník | |
| ICS: |
|
|
| Stav: | Platná |
523-05-13 hluboké reaktivní iontové leptání DRIE
varianta procesu reaktivního iontového leptání (RIE), která může vytvářet profily s velkým poměrem šířky a hloubky
POZNÁMKA 1 k heslu Profily s velkým poměrem šířky a hloubky mohou být vytvářeny střídavým zaváděním leptacího plynu a plynu, který realizuje ochrannou vrstvu v zařízení, které provádí reaktivní iontové leptání.
POZNÁMKA 2 k heslu Tato poznámka se týká pouze francouzské jazykové verze.
[ZDROJ: IEC 62047-1:2016, 2.5.29]
523-05-13 deep reactive ion etching DRIE
variation of reactive ion etching (RIE), which can produce high aspect-ratio structures with vertical sidewalls
Note 1 to entry: For example, high aspect-ratio structures can be produced by introducing alternately an etching gas and a protective-film-forming gas in reactive ion etching equipment.
Note 2 to entry: This note applies to the French language only.
SOURCE: IEC 62047-1:2016, 2.5.29