ČSN IEC 60050-523 - Mezinárodní elektrotechnický slovník – Část 523: Mikroelektromechanické součástky
| Stáhnout normu: | ČSN IEC 60050-523 (Zobrazit podrobnosti) | |
| Změny: |
|
|
| Datum vydání/vložení: | 2019-06-01 | |
| Zdroj: | http://www.electropedia.org/iev/iev.nsf/welcome?OpenForm&Seq=1 | |
| Třidící znak: | 330050 | |
| Obor: | Terminologie - Mezinárodní slovník | |
| ICS: |
|
|
| Stav: | Platná |
523-05-14 indukčně zdvojené plazma ICP
velmi husté plazma generované indukčně navázaným elektromagnetickým polem o vysoké intenzitě
POZNÁMKA 1 k heslu Indukčně zdvojené plazma se používá v leptacích procesech, jako je hluboké reaktivní iontové leptání.
POZNÁMKA 2 k heslu Tato poznámka se týká pouze francouzské jazykové verze.
[ZDROJ: IEC 62047-1:2016, 2.5.30, modifikováno – V definici byla formulace „induktivní vazbou“ nahrazena formulací „indukčně navázaným elektromagnetickým polem o vysoké intenzitě“.]
523-05-14 inductively coupled plasma ICP
high-density plasma generated by a high-intensity inductively coupled electromagnetic field
Note 1 to entry: Inductively coupled plasma is used in etching processes such as deep reactive ion etching.
Note 2 to entry: This note applies to the French language only.
SOURCE: IEC 62047-1:2016, 2.5.30, modified – In the definition, “inductive coupling” has been replaced by “a high-intensity inductively coupled electromagnetic field”.