ČSN P CEN ISO/TS 80004-6 - Nanotechnologie - Slovník - Část 6: Charakterizace nanoobjektu
| Stáhnout normu: | ČSN P CEN ISO/TS 80004-6 (Zobrazit podrobnosti) |
| Datum vydání/vložení: | 2016-11-01 |
| Zdroj: | https://www.iso.org/obp/ui/#iso:std:iso:ts:80004:-6:ed-1:v1:en |
| Třidící znak: | 012003 |
| Obor: | Nanotechnologie |
| ICS: |
|
| Stav: | Neplatná |
3.5.2 mikroskopie atomárních sil, AFM, skenovací silová mikroskopie (zastaralé), SFM (zastaralé)
metoda zobrazování povrchů na základě rozboru mechanického skenování obrysů povrchů, při nichž snímané
vychýlení ostré špičky vyvolají povrchové síly, které jsou monitorovány poddajnou konzolou
[ZDROJ: ISO 18115-2, definice 4.3]
POZNÁMKA 1 k heslu AFM může poskytnout obraz kvantitativní výšky obou izolačních a vodivých povrchů.
POZNÁMKA 2 k heslu U některých AFM pohyblivých přístrojů zachovává vzorek ve směrech x-, y- a zkonstantní polohu vrcholu a u dalších je pohyb vrcholu při zachování konstantní polohy vzorku.
POZNÁMKA 3 k heslu AFM může být prováděna ve vakuu, kapalině, řízené atmosféře nebo na vzduchu. Atomové rozlišení může být dosažitelné vhodnými vzorky, s ostrými vrcholy při použití vhodného zobrazovacího režimu.
POZNÁMKA 4 k heslu Může být měřeno mnoho typů sil, jako jsou normálové síly nebo síly boční, třecí nebo smykové. Další měřicí techniky se odkazují na boční třecí nebo smykovou mikroskopii sily. Tento generický termín zahrnuje všechny typy mikroskopie síly.
POZNÁMKA 5 k heslu AFM detailní snímky mohou být použity k měření povrchových normálových sil působících na jednotlivé body pixelového pole sloužícího pro zobrazování.
POZNÁMKA 6 Pro typické AFM vrcholy s poloměry < 100 nm by měla být normálová síla nižší než přibližně 0,1 mN, v závislosti na vzorku materiálu nebo nevratné deformaci povrchu a výskytu nadměrného opotřebení vrcholu.
3.5.2 atomic force microscopy, AFM, scanning force microscopy (deprecated), SFM (deprecated)
method for imaging surfaces by mechanically scanning their surface contours, in which the deflection of a sharp
tip sensing the surface forces, mounted on a compliant cantilever, is monitored
[SOURCE: ISO 18115-2, definition 4.3]
Note 1 to entry: AFM can provide a quantitative height image of both insulating and conducting surfaces.
Note 2 to entry: Some AFM instruments move the sample in the x-, yand z-directions while keeping the tip position constant and others move the tip while keeping the sample position constant.
Note 3 to entry: AFM can be conducted in vacuum, a liquid, a controlled atmosphere or air. Atomic resolution may be attainable with suitable samples, with sharp tips and by using an appropriate imaging mode.
Note 4 to entry: Many types of force can be measured, such as the normal forces or the lateral, friction or shear force. When the latter is measured, the technique is referred to as lateral, frictional or shear force microscopy. This generic term encompasses all of these types of force microscopy.
Note 5 to entry: AFMs can be used to measure surface normal forces at individual points in the pixel array used for imaging.
Note 6 to entry: For typical AFM tips with radii < 100 nm, the normal force should be less than about 0,1 mN, depending on the sample material, or irreversible surface deformation and excessive tip wear occurs.