Nacházíte se: Domů » Terminologická databáze » ČSN P CEN ISO/TS 80004-6 - nízkoenergetická elektronová mikroskopie, LEEM

ČSN P CEN ISO/TS 80004-6 - Nanotechnologie - Slovník - Část 6: Charakterizace nanoobjektu

Stáhnout normu:	ČSN P CEN ISO/TS 80004-6 (Zobrazit podrobnosti) Zákazníci, kteří mají na svém počítači sjednanou od České agentury pro standardizaci (ČAS) službu ČSN on-line pro elektronický přístup do plných textů norem v pdf (verzi pro firmy nebo pro jednotlivce), mohou zde přímo otevírat citované ČSN.
Datum vydání/vložení:	2016-11-01
Zdroj:	https://www.iso.org/obp/ui/#iso:std:iso:ts:80004:-6:ed-1:v1:en
Třidící znak:	012003
Obor:	Nanotechnologie
ICS:	01.040.07 - Matematika. Přírodní vědy (názvosloví) 07.120 - Nanotechnologie
Stav:	Neplatná

Terminologie normy

‹

Nahlásit chybu

3.5.8 nízkoenergetická elektronová mikroskopie, LEEM

metoda, která zkoumá povrchy, kde obrázky a/nebo difrakční vzory povrchu jsou tvořeny nízkoenergetickou elastickou odrazivostí elektronů generovaných neskenovacím elektronovým paprskem

POZNÁMKA 1 k heslu Tato metoda se obvykle používá pro zobrazování a analýzu velmi plochých, čistých povrchů.

POZNÁMKA 2 k heslu Nízkoenergetické elektrony mají energii obvykle v rozmezí od 1 eV do 100 eV.

3.5.8 low energy electron microscopy, LEEM

method that examines surfaces where images and/or diffraction patterns of the surfaces are formed by low-energy elastically backscattered electrons generated by a non-scanning electron beam

Note 1 to entry: The method is typically used for the imaging and analysis of very flat, clean surfaces.

Note 2 to entry: Low energy electrons have energies typically in the range 1 eV to 100 eV.