ČSN P CEN ISO/TS 80004-13 (by DeepL) - Nanotechnologie - Slovník - Část 13: Grafen a příbuzné dvourozměrné (2D) materiály
| Stáhnout normu: | ČSN P CEN ISO/TS 80004-13 (by DeepL) (Zobrazit podrobnosti) |
| Datum vydání/vložení: | 2021-02-01 |
| Třidící znak: | 012003 |
| Obor: | Nanotechnologie |
| ICS: |
|
| Stav: | Platná |
3.3.2.1 Augerova elektronová spektroskopie
AES
metoda, při níž se k měření rozložení energie Augerových elektronů emitovaných z povrchu používá elektronový spektrometr.
Poznámka 1 k záznamu: K excitaci Augerových elektronů se často používá svazek elektronů v rozsahu energií 2 keV až 30 keV. Augerovy elektrony mohou být také excitovány rentgenovým zářením, ionty a dalšími zdroji, ale termín spektroskopie Augerových elektronů je bez dalších upřesňujících údajů obvykle vyhrazen pro excitaci vyvolanou elektronovým svazkem. Při použití rentgenového zdroje se energie Augerových elektronů vztahují k Fermiho hladině, ale při použití elektronového svazku může být referencí buď Fermiho hladina, nebo hladina vakua. Spektra se obvykle prezentují v přímé nebo diferenciální formě.
[ZDROJ: ISO/TS 80004-6:2013, 4.16]
3.3.2.1 Auger electron spectroscopy
AES
method in which an electron spectrometer is used to measure the energy distribution of Auger electrons emitted from a surface
Note 1 to entry: An electron beam in the energy range 2 keV to 30 keV is often used for excitation of the Auger electrons. Auger electrons can also be excited with X-rays, ions and other sources but the term Auger electron spectroscopy, without additional qualifiers, is usually reserved for electron-beam-induced excitation. Where an X-ray source is used, the Auger electron energies are referenced to the Fermi level but, where an electron beam is used, the reference may either be the Fermi level or the vacuum level. Spectra conventionally may be presented in the direct or differential forms.
[SOURCE: ISO/TS 80004‑6:2013, 4.16]