ČSN P CEN ISO/TS 80004-13 (by DeepL) - Nanotechnologie - Slovník - Část 13: Grafen a příbuzné dvourozměrné (2D) materiály
Stáhnout normu: | ČSN P CEN ISO/TS 80004-13 (by DeepL) (Zobrazit podrobnosti) |
Datum vydání/vložení: | 2021-02-01 |
Třidící znak: | 012003 |
Obor: | Nanotechnologie |
ICS: |
|
Stav: | Platná |
3.3.2.2 Rentgenová fotoelektronová spektroskopie
XPS
metoda, při níž se elektronový spektrometr používá k měření rozložení energie fotoelektronů a Augerových elektronů emitovaných z povrchu ozářeného rentgenovými fotony.
Poznámka 1 k záznamu: Běžně používané zdroje rentgenového záření jsou nemonochromované rentgenové záření Al Kα a Mg Kα o energii 1 486,6 eV, resp. 1 253,6 eV. Moderní přístroje používají také monochromované rentgenové záření Al Kα. Některé přístroje využívají různé zdroje rentgenového záření s jinými anodami nebo synchrotronové záření.
[ZDROJ: ISO/TS 80004-6:2013, 4.18].
3.3.2.2 X-ray photoelectron spectroscopy
XPS
method in which an electron spectrometer is used to measure the energy distribution of photoelectrons and Auger electrons emitted from a surface irradiated by X-ray photons
Note 1 to entry: X-ray sources in common use are unmonochromated Al Kα and Mg Kα X-rays at 1 486,6 eV and 1 253,6 eV, respectively. Modern instruments also use monochromated Al Kα X-rays. Some instruments make use of various X-ray sources with other anodes or of synchrotron radiation.
[SOURCE: ISO/TS 80004‑6:2013, 4.18]