ČSN P CEN ISO/TS 80004-13 (by DeepL) - Nanotechnologie - Slovník - Část 13: Grafen a příbuzné dvourozměrné (2D) materiály
| Stáhnout normu: | ČSN P CEN ISO/TS 80004-13 (by DeepL) (Zobrazit podrobnosti) |
| Datum vydání/vložení: | 2021-02-01 |
| Třidící znak: | 012003 |
| Obor: | Nanotechnologie |
| ICS: |
|
| Stav: | Platná |
3.3.3.6 fotoelektronová emisní mikroskopie
PEEM
metoda zobrazování prostorového rozložení fotoemisního signálu s vysokým prostorovým (50 nm) a spektroskopickým (100 meV) rozlišením.
Poznámka 1 k záznamu: Podobně jako ARPES, ale s vysokým prostorovým rozlišením (přibližně 50 nm). Spektroskopické rozlišení je přibližně 100 meV.
Poznámka 2 k záznamu: Lze použít laboratorní ultrafialové a rentgenové zdroje. Pro proměnné energie se používá synchrotronové záření.
3.3.3.6 photoelectron emission microscopy
PEEM
method of imaging the energy resolved spatial distribution of the photoemission signal with high spatial (50 nm) and spectroscopic (100 meV) resolution
Note 1 to entry: Similar to ARPES but with high spatial resolution (approximately 50 nm). The spectroscopic resolution is approximately 100 meV.
Note 2 to entry: Laboratory ultraviolet and X-ray sources may be used. For variable energies, synchrotron radiation is used.