ČSN P CEN ISO/TS 80004-8 - Nanotechnologie - Slovník - Část 8: Procesy nanovýroby
| Stáhnout normu: | ČSN P CEN ISO/TS 80004-8 (Zobrazit podrobnosti) |
| Datum vydání/vložení: | 2016-11-01 |
| Zdroj: | https://www.iso.org/obp/ui/#iso:std:iso:ts:80004:-8:ed-1:v1:en |
| Třidící znak: | 012003 |
| ICS: |
|
| Stav: | Neplatná |
7.1.2 dodatečné zpracování
přidání vrstvy nového materiálu s cílem zanechat vzor uloženého materiálu na substrátu
POZNÁMKA 1 k heslu K popisu dodatečného zpracování rezistu se používají dva termíny: lift-off a blána cyklostylu. V případě lift-off je nová vrstva aplikována na celou plochu, vzor je odkryt po odstranění neexponovaného rezistu překrytého novým materiálem; v případě blány cyklostylu je nový materiál přidán pouze tam, kde není povrch chráněn rezistem [jako u galvanování (7.2.7) za přítomnosti rezistu].
7.1.2 additive processing
adding a layer of new material, in order to leave a pattern of deposited material on the substrate
NOTE 1 to entry Two terms are used to describe additive processing using resist: lift-off and stencil. In lift-off the layer of new material is applied to the whole surface, the pattern is revealed after the removal of the unexposed resist with the overlaid material; with a stencil the new material is only added where the surface is not protected by resist [as with electrodeposition (7.2.7) with a resist layer in place].