Informační systém Uvádění výrobků na trh
Nacházíte se: Domů » Terminologická databáze » ČSN P CEN ISO/TS 80004-8 - litografie fokusovaným iontovým svazkem FIB

ČSN P CEN ISO/TS 80004-8 - Nanotechnologie - Slovník - Část 8: Procesy nanovýroby

Stáhnout normu: ČSN P CEN ISO/TS 80004-8 (Zobrazit podrobnosti)
Datum vydání/vložení: 2016-11-01
Zdroj: https://www.iso.org/obp/ui/#iso:std:iso:ts:80004:-8:ed-1:v1:en
Třidící znak: 012003
ICS:
  • 01.040.07 - Matematika. Přírodní vědy (názvosloví)
  • 07.120 - Nanotechnologie
Stav: Neplatná
Terminologie normy
Nahlásit chybu

7.1.9 litografie fokusovaným iontovým svazkem FIB

proces přímého zápisu vzoru pomocí fokusovaného iontového svazku použitého k modifikaci rozpustnosti rezistentní vrstvy

7.1.9 focused ion-beam lithography FIB

direct write patterning process that uses a focused ion beam to modify the solubility of a resist layer

Využíváme soubory cookies, díky kterým Vám mužeme poskytovat lepší služby. Využíváním našich služeb s jejich využitím souhlasíte. Více zde Souhlasím