Nacházíte se:
Domů »
Terminologická databáze »
ČSN P CEN ISO/TS 80004-8 - litografie fokusovaným iontovým svazkem FIB
ČSN P CEN ISO/TS 80004-8 - Nanotechnologie - Slovník - Část 8: Procesy nanovýroby
Stáhnout normu: | ČSN P CEN ISO/TS 80004-8 (Zobrazit podrobnosti) |
Datum vydání/vložení: | 2016-11-01 |
Zdroj: | https://www.iso.org/obp/ui/#iso:std:iso:ts:80004:-8:ed-1:v1:en |
Třidící znak: | 012003 |
ICS: |
|
Stav: | Neplatná |
‹
Nahlásit chybu
7.1.9 litografie fokusovaným iontovým svazkem FIB
proces přímého zápisu vzoru pomocí fokusovaného iontového svazku použitého k modifikaci rozpustnosti rezistentní vrstvy
7.1.9 focused ion-beam lithography FIB
direct write patterning process that uses a focused ion beam to modify the solubility of a resist layer