Nacházíte se:
Domů »
Terminologická databáze »
ČSN P CEN ISO/TS 80004-8 - katalytická depozice chemických par CCVD
ČSN P CEN ISO/TS 80004-8 - Nanotechnologie - Slovník - Část 8: Procesy nanovýroby
Stáhnout normu: | ČSN P CEN ISO/TS 80004-8 (Zobrazit podrobnosti) |
Datum vydání/vložení: | 2016-11-01 |
Zdroj: | https://www.iso.org/obp/ui/#iso:std:iso:ts:80004:-8:ed-1:v1:en |
Třidící znak: | 012003 |
ICS: |
|
Stav: | Neplatná |
‹
Nahlásit chybu
7.2.4 katalytická depozice chemických par CCVD
CVD (7.2.3) na základě rozkladu plynných molekul za přítomnosti katalyzátoru
POZNÁMKA 1 k heslu CCVD se používá při syntéze uhlíkových nanotrubic (2.9) na substrátu z výchozích materiálů, jako jsou uhlovodíky (např. metan) s katalyzátory, jako jsou železo, nikl nebo kobalt.
POZNÁMKA 2 k heslu Termín CCVD je nadbytečný při procesu katalýzy.
7.2.4 catalytic chemical vapour deposition CCVD
CVD (7.2.3) based on the decomposition of gaseous molecules in the presence of a catalyst
NOTE 1 to entry CCVD is used in the synthesis of carbon nanotubes (2.9) on a substrate from source materials such as hydrocarbons (e.g. methane) with catalysts such as Fe, Ni, or Co.
NOTE 2 to entry The term CCVD is redundant with the process of catalysis.