Nacházíte se: Domů » Terminologická databáze » ČSN P CEN ISO/TS 80004-8 - extrémní ultrafialová litografie EUV

ČSN P CEN ISO/TS 80004-8 - Nanotechnologie - Slovník - Část 8: Procesy nanovýroby

Stáhnout normu:	ČSN P CEN ISO/TS 80004-8 (Zobrazit podrobnosti) Zákazníci, kteří mají na svém počítači sjednanou od České agentury pro standardizaci (ČAS) službu ČSN on-line pro elektronický přístup do plných textů norem v pdf (verzi pro firmy nebo pro jednotlivce), mohou zde přímo otevírat citované ČSN.
Datum vydání/vložení:	2016-11-01
Zdroj:	https://www.iso.org/obp/ui/#iso:std:iso:ts:80004:-8:ed-1:v1:en
Třidící znak:	012003
ICS:	01.040.07 - Matematika. Přírodní vědy (názvosloví) 07.120 - Nanotechnologie
Stav:	Neplatná

Terminologie normy

‹

Nahlásit chybu

7.1.8 extrémní ultrafialová litografie EUV

expozice rezistentního materiálu pomocí elektromagnetického záření o vlnové délce přibližně 10 nm až 20 nm.

POZNÁMKA 1 k heslu Pro zaostření záření se obvykle používá reflexní optika.

exposure of a resist material using electromagnetic radiation of approximately 10 nm to 20 nm wavelength

NOTE 1 to entry Usually reflective optics are used to focus the radiation.