ČSN P CEN ISO/TS 80004-8 - Nanotechnologie - Slovník - Část 8: Procesy nanovýroby
| Stáhnout normu: | ČSN P CEN ISO/TS 80004-8 (Zobrazit podrobnosti) |
| Datum vydání/vložení: | 2016-11-01 |
| Zdroj: | https://www.iso.org/obp/ui/#iso:std:iso:ts:80004:-8:ed-1:v1:en |
| Třidící znak: | 012003 |
| ICS: |
|
| Stav: | Neplatná |
7.1.18 nanootisková litografie NIL
proces, ve kterém je vzor přenesen tisknutím šablony v nanostupnici (2.7) (obvykle označované jako barvivo, razítko, maska nebo forma) do požadovaného vzoru v reliéfu deformovatelného rezistu, který se pak tepelně nebo světelně vytvrdí
POZNÁMKA 1 k heslu Vzhledem k tomu, že je vzor určen pro topografii šablony, jde o tiskový proces a ne primárně o litografii (3.6).
POZNÁMKA 2 k heslu Typy nanootiskové litografie jsou vhodně rozděleny pomocí daného druhu rezistu pro potisk. Pokud je vyvíjen tlak na šablonu, je rezist zahříván, aby byl tekutý s materiály z termoplastických polymerů. V případě tepelně tvrditelných rezistů se teplo aplikuje poté, co byl zpočátku kapalný rezist nahrazen šablonou. Negativní foto citlivého rezistu mohou být vyvolány použitím světla prostřednictvím (v tomto případě transparentní) šablony. Procesy využívající fotosenzitivní rezist v různých oborech se nazývají optické nanootiskování, a nebo „step and flash“.
7.1.18 nano-imprint lithography NIL
process in which a pattern is transferred by pressing a nanoscale (2.7) template (usually called a die, stamp, mask or mould) of the desired pattern in relief into a deformable resist, which is then cured thermally or with light
NOTE 1 to entry As the pattern is defined by the topography of the template it is a printing process and not a primary lithography (3.6).
NOTE 2 to entry Types of nano-imprint lithography are conveniently divided by the use of a particular type of resist for imprinting. With thermoplastic polymeric materials, the resist is heated so that it can flow when the pressure is applied to the template. With thermosetting resists, heat is applied after the initially liquid resist has been displaced by the template. Negative photosensitive resists can be set by the application of light though the (transparent in this case) template. Processes using photosensitive resist are called by different workers, optical imprinting, optical nano-imprinting or step and flash.