Nacházíte se: Domů » Terminologická databáze » ČSN P CEN ISO/TS 80004-8 - selektivní leptání

ČSN P CEN ISO/TS 80004-8 - Nanotechnologie - Slovník - Část 8: Procesy nanovýroby

Stáhnout normu:	ČSN P CEN ISO/TS 80004-8 (Zobrazit podrobnosti) Zákazníci, kteří mají na svém počítači sjednanou od České agentury pro standardizaci (ČAS) službu ČSN on-line pro elektronický přístup do plných textů norem v pdf (verzi pro firmy nebo pro jednotlivce), mohou zde přímo otevírat citované ČSN.
Datum vydání/vložení:	2016-11-01
Zdroj:	https://www.iso.org/obp/ui/#iso:std:iso:ts:80004:-8:ed-1:v1:en
Třidící znak:	012003
ICS:	01.040.07 - Matematika. Přírodní vědy (názvosloví) 07.120 - Nanotechnologie
Stav:	Neplatná

Terminologie normy

‹

Nahlásit chybu

7.3.21 selektivní leptání

proces, ve kterém se jeden povrchový materiál rychle odstraňuje, zatímco druhý se odstraňuje velmi pomalu nebo vůbec ne

PŘÍKLAD Vodný roztok HF leptá SiO2 velmi rychle, přestože neleptá křemík.

process in which one surface material is removed rapidly while the other is removed very slowly or not removed at all

EXAMPLE HF water solution etches SiO2 very rapidly while not etching silicon.