ČSN P CEN ISO/TS 80004-8 - Nanotechnologie - Slovník - Část 8: Procesy nanovýroby
| Stáhnout normu: | ČSN P CEN ISO/TS 80004-8 (Zobrazit podrobnosti) |
| Datum vydání/vložení: | 2016-11-01 |
| Zdroj: | https://www.iso.org/obp/ui/#iso:std:iso:ts:80004:-8:ed-1:v1:en |
| Třidící znak: | 012003 |
| ICS: |
|
| Stav: | Neplatná |
7.3.16 leptání asistované světlem fotochemické leptání
proces, ve kterém světlo slouží k ovlivnění nebo řízení procesu leptání
POZNÁMKA 1 k heslu Světlem asistované leptání je založeno na fotosenzitivitě chemického leptání za určitých podmínek. Požadovaná boční struktura může být vyrobena v závislosti na rozložení osvětlení, které je určeno pomocí optické zobrazovací soustavy během procesu leptání. Tento postup byl například použit pro přípravu bočně strukturovaného luminiscenčního porézního křemíku.
7.3.16 light-assisted etching photochemical etching
processes where light is used to influence or control the etching process
NOTE 1 to entry Light-assisted etching is based on the photosensitivity of chemical etching under certain conditions. A desired lateral structure can be produced, depending on the illumination pattern, which is defined by optical imaging during the etching process. This process has been used to prepare laterally structured luminescent porous silicon for example.