ČSN P CEN ISO/TS 80004-8 - Nanotechnologie - Slovník - Část 8: Procesy nanovýroby
| Stáhnout normu: | ČSN P CEN ISO/TS 80004-8 (Zobrazit podrobnosti) |
| Datum vydání/vložení: | 2016-11-01 |
| Zdroj: | https://www.iso.org/obp/ui/#iso:std:iso:ts:80004:-8:ed-1:v1:en |
| Třidící znak: | 012003 |
| ICS: |
|
| Stav: | Neplatná |
‹
Nahlásit chybu
7.3.8 suché zpopelnění
forma chemického leptání, při kterém je povrchový materiál spontánně leptán neutrálním nebo aktivovaným plynem a tvoří těkavé produkty po leptání
PŘÍKLAD Odstranění masky fotorezistu v atmosféře kyslíkového plazmatu.
7.3.8 dry-ashing
form of chemical etching in which surface material is spontaneously etched by a neutral or activated gas and forms volatile etch products
EXAMPLE Photoresist mask removal in an oxygen plasma ambient.