Nacházíte se: Domů » Terminologická databáze » ČSN P CEN ISO/TS 80004-8 - depozice atomární vrstvy ALD

ČSN P CEN ISO/TS 80004-8 - Nanotechnologie - Slovník - Část 8: Procesy nanovýroby

Stáhnout normu:	ČSN P CEN ISO/TS 80004-8 (Zobrazit podrobnosti) Zákazníci, kteří mají na svém počítači sjednanou od České agentury pro standardizaci (ČAS) službu ČSN on-line pro elektronický přístup do plných textů norem v pdf (verzi pro firmy nebo pro jednotlivce), mohou zde přímo otevírat citované ČSN.
Datum vydání/vložení:	2016-11-01
Zdroj:	https://www.iso.org/obp/ui/#iso:std:iso:ts:80004:-8:ed-1:v1:en
Třidící znak:	012003
ICS:	01.040.07 - Matematika. Přírodní vědy (názvosloví) 07.120 - Nanotechnologie
Stav:	Neplatná

Terminologie normy

‹

Nahlásit chybu

7.2.2 depozice atomární vrstvy ALD

proces zhotovení jednotných konformních filmů prostřednictvím cyklické depozice materiálu pomocí samoukončení povrchové reakce, která umožňuje řízení tloušťky na atomární stupnici

POZNÁMKA 1 k heslu Tento proces často zahrnuje použití alespoň dvou po sobě jdoucích reakcí k dokončení cyklu, který může být několikrát opakován, aby se vytvořila požadovaná tloušťka.

7.2.2 atomic layer deposition ALD

process of fabricating uniform conformal films through the cyclic deposition of material through selfterminating surface reactions that enable thickness control at the atomic scale

NOTE 1 to entry This process often involves the use of at least two sequential reactions to complete a cycle that can be repeated several times to establish a desired thickness.